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        等離子增強化學氣相沉積PECVD

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        設備名稱 :等離子增強化學氣相沉積PECVD 
        品牌型號: SAMCO PD-220NL 

        設備用途
        主要用于二氧化硅和氮化硅介質膜沉積

        主要技術指標:
        氣體:SIH4 CF4 PN2 NH3 N20 O2
        沉積速率:> 30nm/min
        均勻性:片內小于±5%,片間小于±5%,批次小于±5%

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